我国稀贵金属溅射靶材制备问世
发布时间：2018-12-04 10:55
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据悉，昆明贵金属研究所下属的云南省贵金属材料重点实验室研发团队，近期在电子信息产业用稀贵金属溅射靶材的关键制备技术及工程化应用研究中取得重大突破，成功研发出系列稀贵金属溅射靶材。
点评：此次我国稀贵金属溅射靶材制备问世，打破在日本、美国、德国等国家长期垄断地位，实现了替代进口并出口至美国著名半导体公司，国内溅射靶材企业的成长空间被打开。贵研铂业半导体器材镍铂靶材制备关键技术实现重大突破；江丰电子是全球高纯金属溅射靶材领先企业。
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